Zòn aplikasyon prensipal nan plak molibdenum
Nan konstriksyon nan mwazi ak pati founo,plak molibdenumyo lajman itilize fabrike mwazi ak vakyòm revètman founo ak lòt pati akòz estabilite segondè tanperati yo ak bon pwopriyete mekanik.
Nan endistri yo elektwonik ak semi -conducteurs, plak molibdèn yo te itilize fabrike aparèy elektwonik ak konpozan semi -conducteurs, tankou kondansateur pouvwa, réacteurs ak lòt konpozan, osi byen ke molibdèn sib sputtering, gras a bon kondwit elektrik yo ak tèmik ak korozyon rezistans.
Nan jaden an avyon, plak molibdèn yo te itilize kòm materyèl estriktirèl fabrike pati motè, kokiy misil ak lòt pati nan machin avyon tankou avyon, wokèt ak misil, sitou akòz gwo fòs yo, segondè dite ak rezistans tanperati ki wo.
Estati plak molibden ak espesifikasyon
| Sifas | Epesè (mm) | Tolerans (mm) | Lajè (mm) | Tolerans (mm) | Longè (mm) | Tolerans (mm) | Brutality (um) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Woule | 2.0-3.0 | ±0.050.5 | 10-300 | ±0.20.5 | 10~2000 | ±0.20.5 | / |
| Vire | 10-40 | ±0.050.1 | 10-300 | ±0.10.5 | 10~500 | ±0.10.5 | RA mwens pase oswa egal a 3.2 |
| Atè | 10-40 | ±0.050.1 | 10-800 | ±0.050.2 | 10~1000 | ±0.050.2 | Ra mwens pase oswa egal a 0. 8 |
| Frèt woule | 0.1-2.0 | ±0.050.1 | 10-300 | ±0.050.2 | 10~300 | ±0.050.2 | RA mwens pase oswa egal a 1.6 |
Segondè tanperati molibdèn plak pwodwi foto ekspozisyon
Avantaj nou yo:
1. Pri konpetitif.
2. Avantaj nou yo siperyè pou lòt founisè yo.
3. Menm pri, bon jan kalite serye.
4. livrezon alè dapre kondisyon ou yo.
5. Sèvis pwofesyonèl, anpil diminye depans akizisyon.
FAQ sou Zhenan
Q1. Èske w se yon konpayi komès oswa manifakti?
A: Nou se yon manifakti materyèl metal pwofesyonèl, ki konsantre sou jaden sa a pou plis pase 10 ane.
Q2. Èske gen nenpòt limit MOQ pou materyèl Customized?
A: Pa gen MOQ, nou bay sèvis OEM ak echantiyon sipò yo.
Q3. Kouman se kontwòl la bon jan kalite?
A: Nou toujou prepare echantiyon anvan pwodiksyon an mas, toujou fè enspeksyon final anvan chajman, epi nou menm tou nou aksepte twazyèm pati nan tès.