Round Tantal Sputtering Sib

Round Tantal Sputtering Sib

Sifas: poli, klere, woule
Anbalaj: bwat an bwa
Minimòm kantite lòd: 1 moso
Aplikasyon: endistriyèl, elektwonik, medikal
Voye rechèch
Dekri teren
Karakteristik teknik
Aplikasyon sib Tantal

 

Objektif Tantal yo anjeneral rele sib fè. Yo premye soude nan sib tounen kwiv, ak Lè sa a, semi-conducteurs oswa optik sputtering fèt pou depoze atòm Tantal sou materyèl substra nan fòm oksid pou reyalize kouch sputtering; sib Tantal yo pwensipalman itilize nan kouch semi-conducteurs, kouch optik ak lòt endistri yo. Nan endistri semi-conducteurs, Tantal metal se kounye a pwensipalman itilize kòm yon materyèl sib yo fòme yon kouch baryè pa depozisyon fizik vapè.

 

Depozisyon fib sputtering,

Kouch nan gauf semi-conducteurs ak sikui entegre

Katod sputtering kouch

Segondè ponp vakyòm nan materyèl aktif

 

Paramèt sib Tantal

 

Materyèl Ta Target
Pite 99.9%-99.99%
Gwosè Dyamèt 1","2", 3", 4" oswa Customized
Dansite relatif pi wo pase 99%
Fòm Wonn, rektangilè, granules, oswa Customized
Liaison Endyòm, Elastomère
Sifas Tè
COA Yo pral bay pa imèl apre chajman
Analiz ICP-OES oswa MSDS
Sitasyon Repons nan lespas 24 èdtan
Pake Vacuum sele andedan ak ka an bwa deyò

 

Nou se chwa ou pi bon ak pi asire

 

1. Pwofesyonèl ak alè ekip konsiltasyon pre-lavant

2. One-to-one lavant ekip sipò

3. Ekip manifakti pwofesyonèl

4. Butler-style ekip sèvis apre-lavant

 

Vizit kliyan ak anviwònman konpayi an

 

ta metal sputtering target company

Tantalum metal sputtering target company

 

Baj popilè: wonn Tantal sputtering sib, Lachin wonn Tantal sputtering sib manifaktirè, Swèd, faktori