Materyèl ak karakteristik Zhenan Tantalum creuctable
Segondè pwen k ap fonn: Tantal gen yon pwen trè wo fonn nan sou 3017 degre, ki ranje nan mitan tèt la nan mitan tout metal yo. Sa a pèmèt Tantal crucibles kenbe tèt avè tanperati trè wo ak se apwopriye pou fondri a nan metal segondè pwen k ap fonn ak alyaj espesyal.
Rezistans Kowozyon: Tantal gen pwopriyete chimik ki estab, espesyalman rezistans chimik korozyon li yo patikilyèman eksepsyonèl nan tanperati ki anba a 150 degre, epi li ka sèlman ki fonn ak asid idrofluorik. Anplis de sa, Tantal kapab tou fòme yon kouch oksid pwoteksyon, plis amelyore rezistans korozyon li yo. Se poutèt sa,tantal cruciblesKa itilize san danje nan pwosesis la raffinage nan pwodwi chimik korozivite ki gen asid fò ak alkal tankou halogen ak Aqua Regia.
Pwopriyete fizik: Tantal gen dite modere ak duktilite rich, epi yo ka trase nan filaman oswa te fè nan feuilles mens. An menm tan an, koyefisyan ekspansyon tèmik li yo se ti ak estabilite tèmik li yo se yon bon bagay. Pwopriyete fizik sa yo fè kroustiyan Tantal gen ekselan rezistans deformation pandan itilize.
Zhenan segondè pite tantal crucible pwodwi detay paramèt tab
|
Tretman sifas |
Poli |
|
Egalize |
Ta |
|
Tolerans |
± 0. 1mm |
|
Sèvis pwosesis |
Koube, decoiling, soude, pwensonaj, koupe |
|
Tan livrezon |
15-18 jou |
|
Fòm |
Ba, granules, sikilè, rektangilè, plon |
|
MOQ |
1 PC |
|
Tay |
Gwosè Customized |
|
Pite |
99.95% |
Zhenan wonn tantalum detay pwodwi kreyon
Nou se pi bon ak pi asire chwa ou:
1. Pwofesyonèl ak alè pre-lavant ekip konsiltasyon
2. yon sèl-a-youn ekip sipò lavant yo
3. Ekip Faktori Pwofesyonèl
4. Butler-style apre-lavant ekip sèvis yo
FAQ sou Zhenan
1. ki jan yo ka resevwa yon quote?
Kontakte nou pou jwenn yon quote pou pwodwi ki enpòtan nan twa èdtan.
2. Èske ou aksepte personnalisation?
Wi, nou ka travay sou dapre desen ou yo.
3. Konbyen se machandiz la?
Sitou depann sou pwa, volim, gwosè anbalaj ak pò destinasyon.
4. Konbyen tan se tan livrezon ou a?
Si nan stock, 1-2 jou, si se pa, li depann sou kantite ou.